铬铝硅合金靶材是由高纯铬、铝、硅为原料，经过精细的磨粉，混粉，再热等静压制得，是在硬质合金刀具等工具及热处理模具镀膜领域应用的一类新型靶材，可提高膜层的抗磨损能力和膜层的使用温度，具有良好的耐磨和抗氧化性能。...

　　铬铝硅合金靶材是由高纯铬、铝、硅为原料，经过精细的磨粉，混粉，再热等静压制得，是在硬质合金刀具等工具及热处理模具镀膜领域应用的一类新型靶材，可提高膜层的抗磨损能力和膜层的使用温度，具有良好的耐磨和抗氧化性能。

　　在铬铝靶材中掺杂一定量的硅，制作成铬铝硅靶材，经过物理气相沉积工艺可在涂层中形成非晶态的Si3N4，其对涂层晶粒的长大具有强烈的抑制作用，从而使涂层晶粒更加细小，达到提高涂层硬度的目的。Si3N4可有效地阻碍氧向涂层内部的扩散，明显提高涂层抗高温氧化性能。

　　铬铝硅靶材采用先进的热等静压工艺生产，产品包括平面靶，柱状靶，开云app电弧靶，异型靶等类型，具纯度高、组织均匀、无偏析、无气孔、致密度高等优点。

　　北京瑞弛高科技有限公司专业提供铬铝硅靶材，可以根据客户要求定制，如需要更多的信息，敬请联系我们。